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太陽膜的磁控濺射技術和真空蒸發鍍膜法

來源:林上科技   發布時間:2012/3/10 22:37:41  浏覽:
利用磁控濺射技術所生産的太陽膜具有膜層緻密,均勻,有良好的透光性和優良的光譜選擇性能,磁控濺射鍍膜在線測厚儀​能為真空鍍膜磁控濺射技術提供生産在線檢測.

       現在市面上好的太陽膜其制作方法多半為以下兩種:一種是真空蒸發鍍膜法。一種是磁控濺射法。

      1、真空蒸發鍍膜法就是在真空中以電阻加熱鍍膜材料,使它在極短的時間内蒸發,蒸發了的鍍膜材料分子沉積在基材表面上形成鍍膜層。真空鍍膜室是使鍍膜材料蒸發的蒸發源,還有支承基材的工作架或卷繞裝置都是真空蒸發鍍膜設備的主要部分。鍍膜室的真空度,鍍膜材料的蒸發熟練地,蒸發距離和蒸發源的間距,以及基材表面狀态和溫度都是影響鍍膜質量的因素。

  2、磁控濺射法是指電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氩原子發生碰撞,電離出大量的氩離子和電子,電子飛向基片。氩離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響,被束縛在靠近靶面的等離子體區域内,該區域内等離子體密度很高,二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動,該電子的運動路徑很長,在運動過程中不斷的與氩原子發生碰撞電離出大量的氩離子轟擊靶材,經過多次碰撞後電子的能量逐漸降低,擺脫磁力線的束縛,遠離靶材,最終沉積在基片上。

       3、磁控濺射法與蒸發法相比,具有鍍膜層與基材層的結合力強,鍍膜層緻密,均勻等優點。真空蒸發鍍膜法需要使金屬或金屬化合物蒸發氣化,而加熱溫度又不能太高,否則氣相蒸鍍金屬會燒壞被塑料基材,因此,真空蒸鍍法一般僅适用于鋁等熔點較低的金屬源,是目前應用較為廣泛的真空鍍膜工藝。相反,噴濺鍍膜法利用高壓電場激發産生等離子體鍍膜物質,适用于幾乎所有高熔點金屬,合金、非金屬及金屬化合物鍍膜源物質,如鉻,钼,鎢,钛,銀,金等。而且它是一種強制性的沉積過程,采用該法獲得的鍍膜層與基材附着力遠高于真空蒸發鍍法,鍍膜層具有緻密,均勻等優點,加工成本也相對較高。

  目前擁有磁控濺射技術的太陽膜生産廠家有:美國韶華科技公司(Southwall)、美國貝卡爾特公司(Bekaert)、美國CPFilms公司。利用磁控濺射技術所生産的太陽膜具有膜層緻密、均勻,有良好的透光性和優良的光譜選擇性能,深圳市林上科技生産的磁控濺射鍍膜在線測厚儀能為真空鍍膜磁控濺射技術提供鍍膜生産在線檢測,保證太陽膜産品的高品質,使其能夠為車主帶來舒适、安全的行車環境。

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