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蒸發鍍膜和磁控濺射鍍膜的特點

來源:林上科技   發布時間:2012/3/19 8:34:13  浏覽:
真空鍍膜是在較高真空度下進行的鍍膜,真空鍍膜應用較多的是蒸發鍍膜和磁控濺射兩種,鍍膜産品的光學性能可以根據産品的需求運用真空鍍膜在線測試儀進行檢測。

  真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,真空鍍膜有很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。應用較多的是蒸發和濺射兩種。蒸發鍍膜和磁探濺射鍍膜的特點如下:
       一、對于蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來,并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。
        1、厚度均勻性主要取決于:A.基片材料與靶材的晶格匹配程度;B.基片表面溫度;C.蒸發功率、速率;D.真空度;E.鍍膜時間、厚度大小。
        2、組分均勻性:蒸發鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調控的因素同上,但是由于原理所限,對于非單一組分鍍膜,蒸發鍍膜的組分均勻性不好。
        3、晶向均勻性:1.晶格匹配度2.基片溫度3.蒸發速率二.濺射類鍍膜可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并且最終沉積在基片表面,經曆成膜過程,最終形成薄膜。

真空鍍膜設備


       二、磁控濺射鍍膜又分為很多種,總體看,與蒸發鍍膜的不同點在于濺射速率将成為主要參數之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射),晶向(外沿)生長的控制也比較一般。
       鍍膜産品的光學檢測可以根據産品的需求,運用真空鍍膜在線測試儀進行在線檢測和控制。

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