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影響真空蒸發鍍膜厚度的因素

來源:林上科技   發布時間:2013/1/15 15:04:50  浏覽:
影響真空蒸發鍍膜厚度的因素有很多,鍍層厚度的均勻性就決定了鍍膜的品質,鍍膜生産過程中我們可以使用光密度在線測試儀對鍍膜厚度的一緻性進行測試。

  一般來說蒸發真空鍍膜就是将靶材在真空的環境下加以高溫,使其以原子團或者離子的形式被蒸發出來,然後在将基片防于真空倉中讓這些原子團或離子沉澱在基片之上,在沉澱的過程中我們還能通過我們的需要來改變靶材的沉澱情況。
       光密度在線測試儀能在真空鍍膜生産的過程中進行鍍膜厚均勻性的監測;選擇真空鍍膜就是想要在基片上均勻的鍍上膜,靶材厚度的均勻性就決定了鍍膜的品質,鍍膜生産過程中我們可以使用光密度在線測試儀來進行測試。

光密度在線測試儀

       那麼具體影響基片上的靶材厚度是否均勻的因素有哪些呢?
       首先對基片上的膜厚度就算是同一種物質都會出現分子結構不同的情況,而真空鍍膜簡單說來就是在一種物質覆蓋另一種物質,如果這兩種物質的分子結合能夠很好的鑲嵌在一起,那麼對真空鍍膜情況肯定是有很大好處的,反之亦然。
       然後基片表面的溫度也是會影響真空鍍膜厚度是否均勻的;基片的溫度越高則鍍膜效果越好,當然在真空鍍膜的時候也會純在一些特殊的材料,它們的鍍膜情況則是基片溫度越低鍍膜效果會更好。
       另外,真空鍍膜機的蒸發功率和速率也是影響真空鍍膜情況一個較大的因素,這個因素想要改變的話隻能在真空鍍膜機上改善,因此想要通過加大真空鍍膜設備的蒸發功率來改變鍍膜情況是比較困難的。
       最後真空鍍膜的時間和所需鍍膜的厚度也是會影響到鍍膜是的均勻行的一個因素。所以最有效的辦法還是通過目前專業的光密度在線測試儀來連續測試鍍膜厚度的均勻性是否達到标準。

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