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鍍鋁膜的厚度均勻性測量

來源:林上科技   發布時間:2013/2/2 11:31:42  浏覽:
由于真空鍍鋁薄膜上的鍍鋁層非常薄,因此不能用常規的測厚儀器檢測其厚度,目前檢測鍍鋁膜層厚度均勻性的專用儀器是光密度儀,光密度儀原理是通過對薄膜透光率光學性能進行檢測.

  由于真空鍍鋁薄膜上的鍍鋁層非常薄,因此不能用常規的測厚儀器檢測其厚度,目前測量鍍鋁膜的厚度均勻性的專用儀器是光密度儀。光密度儀原理是光密度法通過對薄膜透光率光學性能進行檢測。
  鍍鋁膜的厚度均勻性測量方法:
  1、高倍電子顯微鏡直接測量,精确度為10E-10米,也就是0.1納米(1米=1000mm,1mm=1000微米,1微米=1000納米,1納米=10埃米)。鍍鋁層的厚度一般為30埃米至800埃米之間。這個方法對鍍鋁層厚度方向上的斷面取樣手法要求極高,其精确度影響較大,但是所得數據是最為直接的物理測量。
  2、方塊電阻法測量,我國有國家标準:GB/T 15717-1995 《真空金屬鍍層厚度測試方法電阻法》。此标準中有詳細的方法描述,伱有興趣可以下載下來看看。這是一種模拟檢測手段,有一定誤差,尤其是對半透明鍍鋁膜的檢測,簡直無法進行。
  3、用光密度計進行檢測:目前這種儀器在物理學的原理方面是一樣的,但是奇怪的是連美國都有兩家公司生産的光密度計居然差别很大,一種是TOBIAS牌的,另一種是愛色麗(X-rite)生産的系列儀器。國内的光密度計就是林上科技的LS117光密度計;它是用光學透視的方法來換算鍍鋁層的厚度,也是一種模拟檢測方法。這種儀器可以适用于半透明鍍鋁膜,也能适用于不透明鍍鋁膜。

光密度儀

  4、用光密度儀進行檢測,儀器很多,但全球标準都不統一,也是一種模拟檢測方法,适用于半透明鍍鋁膜的檢測。鍍鋁膜使用的檢測儀還是選擇光密度儀最為合适。

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