Welcome恒大开户地址為夢而年輕!

真空鍍鋁膜厚度均勻性檢測

來源:林上科技   發布時間:2013/4/2 17:54:30  浏覽:
高品質的真空鍍膜設備生産過程中鍍膜層厚度均勻檢測方法有光密度測量法和方阻測量法,林上真空鍍鋁薄膜在測厚儀就是用的光密度測量法。

  真空鍍鋁膜經常應用于具有阻隔性或遮光性要求的包裝上使用,因此,鍍鋁膜層的厚度和表面狀況以及附着牢度的大小将直接影響其鍍膜産品的性能。鍍鋁膜的檢測主要體現在鍍膜層厚度、鍍鋁層牢度和鍍鋁層的表面狀況等方面。高品質的鍍鋁膜要求在真空鍍膜設備生産過程中鍍膜層厚度均勻,在光學真空鍍薄膜這是一項技術要求較高的工藝技術,
       随着真空鍍鋁膜的無間生長,檢測真空鍍鋁薄膜的鍍層厚度勻稱性需要裝配真空鍍鋁薄膜在測厚儀,在線監測鍍膜過程中的鍍層厚度的一緻性。現今市場上已經有真空鍍鋁薄膜在測厚儀,公用于鍍膜産品光學性能的在線監測,确保真空鍍膜産品品質。

真空鍍鋁薄膜在測厚儀

       由于真空鍍鋁薄膜上的鍍膜層非常薄,因此不能使用常規的測厚儀來檢測其厚度,檢測的方法主要有電阻法和光密度測量法。電阻法是利用歐姆定律來對鍍鋁膜層的厚度進行測量,根據歐姆定律:R=P*L/S。單位面積鍍鋁薄膜的電阻值越小,其鍍鋁層的厚度越厚,反之則越薄。光密度法是利用光學可見光透過率來監測鍍膜層的均勻性,光密度(OD)定義為材料遮光能力的表征。它用透光鏡測量。光密度沒有量綱單位,是一個對數值,通常僅對鍍鋁薄膜和珠光膜進行光密度測量。表示被檢測物吸收掉的光密度,是檢測方法裡出現的專有名詞。它與透光率值存在固定公式轉換關系。林上真空鍍鋁薄膜在測厚儀就是用的光密度測量法。
       光密度是入射光與透射光比值的對數或者說是光線透過率倒數的對數。計算公式為:
       OD=log10(入射光/透射光)或OD=log10(1/透光率)
       通常鍍鋁膜的光密度值為1-3(即光線透過率為10%-0.1%),數值越大鍍鋁層越厚,使用真空鍍鋁薄膜在測厚儀就能詳細了解鍍鋁膜的厚度均勻性與光學透光率值、光密度值之間的關系。

相關文章鍊接